CO2激光輔助鼓膜成形術(shù)的總體滿意,與傳統(tǒng)手術(shù)相比,該手術(shù)方式具有操作簡便、創(chuàng)傷小、且可重復(fù)進(jìn)行的優(yōu)點(diǎn)。準(zhǔn)分子(Excimer)激光:準(zhǔn)分子一詞的本意,是「兩個(gè)同種原子組成,而只存在于受激態(tài)的分子」,如稀有氣體分子He2、Ar2、Xe2等;其英文原名為 Excited Dimer 組合成的術(shù)語?,F(xiàn)在現(xiàn)已將它的適用范圍放寬,以包含「不存在于基態(tài),只以受激態(tài)出現(xiàn)的任何雙原子分子(有時(shí)還包含三原子分子)」。激光切割機(jī)用的激光混合氣體,二維激光切割機(jī)床用的四元激光混合氣體,主要用于鋼材的鈑金加工。
分子氣體:二氧化碳激光和氮?dú)饧す馐浅R姷姆肿託怏w激光,其主要激光光分屬紅外線(10,640 nm)及紫外線(337 nm)。生物組織中的水分會(huì)吸收它的10,640 nm激光光,所以能用于手術(shù),所需激光光功率約為50W。此外,非金屬材料的加工、金屬表面的熱處理、光譜學(xué)及光化學(xué)研討、環(huán)境遙測(cè)、測(cè)距、激起其他激光、發(fā)生離子體(俗稱電漿;Plasma)等,也都可用二氧化碳激光來進(jìn)行。重要的準(zhǔn)分子激光,以稀有氣體的鹵化物為自動(dòng)介質(zhì),如ArF, KrF, XeF, KrCl, XeCl等。因?yàn)槭芗B(tài)常以星號(hào)(*)上標(biāo)表示,所以有些數(shù)據(jù)上寫成ArF*等。準(zhǔn)分子不會(huì)天然出現(xiàn),而是在氣體混合物中放電時(shí)形成的。激光混合氣中組分氣的純度直接影響激光的性能,特別是氣體中氧、水、碳?xì)浠衔锏入s質(zhì)的存在將導(dǎo)致激光輸出功率在鏡(面)和電極上的耗損,還會(huì)引起激光發(fā)射的不穩(wěn)定。
20W機(jī)型可發(fā)生275.4至1090.0 nm的一些激光光。主要的可見光波長分別是514.5、501.7、496.5、 488.0、476.5、472.7、465.8、457.9、454.5 nm。藍(lán)綠光波段中,而的是514.5及488 nm。氪離子激光可發(fā)生337.4至799.3 nm,的是647.1 nm,其次為413.1及530.9 nm。產(chǎn)品中,有將氬氣與氪氣混合的機(jī)型。氣體激光(Gaseous laser),以氣體為自動(dòng)介質(zhì)的激光中,包含中性原子激光、離子氣體激光、金屬蒸汽激光、分子氣體激光、準(zhǔn)分子激光。準(zhǔn)分子(Excimer)激光:準(zhǔn)分子一詞的本意,是「兩個(gè)同種原子組成,而只存在于受激態(tài)的分子」,如稀有氣體分子He2、Ar2、Xe2等;其英文原名為 Excited Dimer 組合成的術(shù)語?,F(xiàn)在現(xiàn)已將它的適用范圍放寬,以包含「不存在于基態(tài),只以受激態(tài)出現(xiàn)的任何雙原子分子(有時(shí)還包含三原子分子)」。
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